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一、电子工业用超纯水处理设备—LTLD-C概述
制备电子工业主要包括半导体材料、印刷电路板、液晶显示器、光电器件、微电子工业以及大规模集成电路,这些领域对于用水要求都非常高,一般将电子行业用水分为五个等级,分别是1 MΩ.cm、5 MΩ.cm、10 MΩ.cm、16 MΩ.cm和18 MΩ.cm。电子工业用超纯水处理设备—LTLD-C采用先进的制水技术,保证设备的出水水质达到18兆欧以上。
二、电子工业用超纯水处理设备—LTLD-C工艺流程
电子行业制备超纯水的工艺大致分成以下几种:
1、采用离子交换树脂制备超纯水的其基本工艺流程为:原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→阳床→阴床(复床)→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备其基本工艺流程为:原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→高压泵→反渗透设备→RO水箱→混床泵→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
3、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备,这是一种制取超纯水的最新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→高压泵→反渗透设备→RO水箱→(EDI)泵→保安过滤器→紫外线→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
三、电子工业用超纯水处理设备—LTLD-C的特点
EDI装置不需要化学再生,可连续运行,进而不需要传统水处理工艺的混合离子交换设备再生所需的酸碱液,以及再生所排放的废水。其主要特点如下:
连续运行,产品水水质稳定,容易实现全自动控制,无须用酸碱再生,不会因再生而停机,节省了再生用水及再生污水处理设施,产水率高(可达95%),无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施。
占地面积小,使用安全可靠,避免工人接触酸碱,降低运行及维护成本,设备单元模块化,可灵活的组合各种流量的净水设施,安装简单、费用低廉,设备初期投资大。
四、EDI装置与混床离子交换设备比较
EDI装置与混床离子交换设备属于水处理系统中的精处理设备,下面将两种设备在产水水质、投资量及运行成本方面进行比较,来说明EDI装置在水处理中应用的优越性。
(1)产水水质比较
EDI装置是一个连续净水过程,因此其产品水水质稳定,电阻率最高可达18.25MΩ?cm,达到超纯水的指标。混床离子交换设施的净水过程是间断式的,在刚刚被再生后,其产品水水质较高,而在下次再生之前,其产品水水质较差。
(2)投资量比较
与混床离子交换设施相比EDI装置投资量要高约20%左右,但从混床需要酸碱储存、酸碱添加和废水处理设施及后期维护、树脂更换来看,两者费用相差在10%左右。随着技术的提高与批量生产,EDI装置所需的投资量会大大的降低。另外,EDI装置设备小巧,所需厂房远远小于混床。
(3)运行成本比较
EDI装置运行费用包括电耗、水耗、药剂费及设备折旧等费用,省去了酸碱消耗、再生用水、废水处理和污水排放等费用。
在电耗方面,EDI装置约0.5kWh/t水,混床工艺约0.35kWh/t水,电耗的成本在电厂来说是比较经济的,可以用厂用电的价格核算。
在水耗方面,EDI装置产水率高,不用再生用水,因此在此方面运行费用低于混床。
至于药剂费和设备折旧费两者相差不大。
总的来说,在运行费用中,EDI装置吨水运行成本在1.8元左右,常规混床每吨水运行成本在3.2元左右,高于EDI装置。因此,EDI装置多投资的费用在1-2年内完全可以回收。
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